芯東西(公眾號:aichip001)
作者 | ?ZeR0
編輯 | ?漠影

芯東西11月10日報道,近日,以色列片上存儲IP創(chuàng)企RAAAM宣布已完成超額認(rèn)購的1750萬美元(約合人民幣1.2億元)A輪融資,由恩智浦半導(dǎo)體領(lǐng)投。

本輪融資完成后,RAAAM總?cè)谫Y額超過2400萬美元(約合人民幣1.7億元)。

RAAAM成立于2021年5月,總部位于以色列,在瑞士設(shè)有研發(fā)中心,共有22名員工。該公司開發(fā)了新一代片上存儲技術(shù)GCRAM,與高密度SRAM相比,其面積最多可縮減50%,功耗最多可降低90%

內(nèi)存功耗大降90%!22人存儲創(chuàng)企融資超1億,恩智浦領(lǐng)投

據(jù)官網(wǎng)介紹,RAAAM由4位來自巴伊蘭大學(xué)和洛桑聯(lián)邦理工學(xué)院、專攻超大規(guī)模集成電路(VLSI)設(shè)計的博士創(chuàng)立。

“與SRAM相比,我們的解決方案有望通過顯著提高內(nèi)存密度和降低功耗,解決頂尖AI芯片的內(nèi)存瓶頸問題。”RAAAM聯(lián)合創(chuàng)始人兼CEO Robert Giterman談道。

為了減少芯片外數(shù)據(jù)傳輸,幾乎所有SoC都集成了大量的片上嵌入式內(nèi)存緩存。這些緩存通常采用靜態(tài)隨機存取存儲器(SRAM)實現(xiàn),并往往占據(jù)超過50%的芯片面積。由于SRAM的尺寸縮小已達(dá)極限,在5nm以下的先進(jìn)CMOS工藝節(jié)點中不再進(jìn)一步縮小,內(nèi)存瓶頸問題更加嚴(yán)重。

在芯片尺寸不變的情況下,RAAAM的GCRAM技術(shù)能夠增加片上存儲容量,通過減少或完全消除片外數(shù)據(jù)傳輸,顯著提升系統(tǒng)帶寬和能效。減小存儲器占用空間還可以通過縮小芯片尺寸大幅降低制造成本。

GCRAM的bitcell包含3顆晶體管,而DRAM只有1顆晶體管和1個電容。SRAM的bitcell通常包含6顆晶體管,是GCRAM的2倍。因此在其他條件相同的情況下,SRAM的面積和功耗大約是GCRAM的2倍。對于2Mbit等大型存儲陣列而言,GCRAM的密度優(yōu)勢有助于大幅降低成本。

內(nèi)存功耗大降90%!22人存儲創(chuàng)企融資超1億,恩智浦領(lǐng)投

除了面積優(yōu)勢外,GCRAM bitcell采用解耦的讀寫端口,無需額外成本即可實現(xiàn)原生雙端口操作,顯著提升存儲器帶寬。

GCRAM在16nm FinFET工藝下可實現(xiàn)低至450mV的讀寫電壓,標(biāo)準(zhǔn)片上SRAM的Vmin則為700mV。與其他SRAM解決方案相比,GCRAM能大幅降低功耗。

RAAAM的GCRAM技術(shù)已在領(lǐng)先晶圓代工廠的芯片上得到驗證,工藝節(jié)點范圍從16nm到180nm,并在5nm FinFET技術(shù)中成功進(jìn)行了評估。

內(nèi)存功耗大降90%!22人存儲創(chuàng)企融資超1億,恩智浦領(lǐng)投

▲16nm-180nm工藝中RAAAM GCRAM技術(shù)的硅片實現(xiàn)顯微照片

GCRAM技術(shù)能夠采用任何標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝制造。半導(dǎo)體公司可將其作為SRAM的直接替代品,在更小的硅片面積上實現(xiàn)更大的片上存儲容量,并降低功耗和成本。

新一輪融資將用于支持RAAAM在多家頂級晶圓代工廠的先進(jìn)工藝節(jié)點上對GCRAM進(jìn)行全面認(rèn)證。

RAAAM還宣布與恩智浦展開緊密合作。恩智浦半導(dǎo)體前端創(chuàng)新副總裁Victor Wang評價說,RAAAM在片上存儲器方面的突破直接解決了半導(dǎo)體價值鏈中的一個關(guān)鍵挑戰(zhàn)。