科創(chuàng)南方8月7日報(bào)道，近日，深圳市龍圖光罩股份有限公司在上交所科創(chuàng)板掛牌上市。
龍圖光罩發(fā)行價(jià)為18.5元，是科創(chuàng)板定價(jià)新規(guī)下首家發(fā)行定價(jià)環(huán)節(jié)適用剔除3%最高報(bào)價(jià)比例的科創(chuàng)板個(gè)股。
此次公開發(fā)行3337.5萬股，募資總額為6.17億元。昨日的首日開盤價(jià)為41元，較發(fā)行價(jià)上漲了121.6%;首日收盤價(jià)為34.90元，首日市值達(dá)46.59億元。
今日，該公司收盤價(jià)為31.30元，市值為41.8億元。
成立于2010年的龍圖光罩，主營業(yè)務(wù)為半導(dǎo)體掩模版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，是國內(nèi)稀缺的獨(dú)立第三方半導(dǎo)體掩模版廠商，掌握了130nm 及以上制程節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩模版生產(chǎn)制造的關(guān)鍵技術(shù)。
半導(dǎo)體掩膜版是什么？
掩膜版，也被稱為是光罩、光掩版，是半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的圖形模版。就像傳統(tǒng)相機(jī)的“底片”一樣，掩膜版承擔(dān)著把設(shè)計(jì)圖案轉(zhuǎn)化成實(shí)體產(chǎn)品的關(guān)鍵步驟。
掩模版是上游芯片設(shè)計(jì)公司與下游晶圓制造廠商的中間橋梁。掩膜版上有預(yù)先設(shè)計(jì)好的電路圖案，通過一系列精細(xì)的曝光工藝，這些電路圖案就會(huì)被“投影”到下游制程的材料上，從而實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的批量化生產(chǎn)。
很長一段時(shí)間來，美日廠商在全球第三方半導(dǎo)體掩膜版市場占據(jù)壟斷地位。根據(jù)SEMI 數(shù)據(jù)，在全球半導(dǎo)體掩模版市場，晶圓廠自行配套的掩模版工廠規(guī)模占比 65%，獨(dú)立第三方掩模廠商規(guī)模占比 35%，其中獨(dú)立第三方半導(dǎo)體掩模版市場主要被美國 Photronics、日本 Toppan 和日本 DNP 三家公司所控制，三者共占八成以上的市場規(guī)模。
龍圖光罩正是國內(nèi)稀缺的獨(dú)立第三方半導(dǎo)體掩模版生產(chǎn)商，而龍圖光罩的成功上市，可以說是讓半導(dǎo)體掩膜版的“國產(chǎn)替代”又向前邁進(jìn)了一步，該公司也是目前A股市場上唯一一家半導(dǎo)體掩膜版收入占比超9成的公司。
隨著下游新興產(chǎn)業(yè)如新能源汽車、光伏發(fā)電、工業(yè)自動(dòng)化等的發(fā)展，國內(nèi)半導(dǎo)體掩膜版需求近年來大幅增加，這也使得龍圖光罩在2021年至2023年，營業(yè)收入年均復(fù)合增長率達(dá)到38.56%，其凈利潤的年均復(fù)合增長率更是超過了40%。
回顧龍圖光罩的上市歷程，從2023年5月受理材料開始，其上市審核過程大概用了1年3個(gè)月，相比創(chuàng)業(yè)板、主板或科創(chuàng)板的絕大多數(shù)企業(yè)耗時(shí)，已是非常高效。
通過本次上市，龍圖光罩將持續(xù)加大技術(shù)創(chuàng)新投入，本次擬募集資金6.63億元，將直接用于電子束光刻機(jī)等一系列高端設(shè)備購置及產(chǎn)線建設(shè)，推動(dòng)90nm、65nm及更高制程節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩模版的技術(shù)突破，補(bǔ)強(qiáng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展短板，提升自主可控水平。
一、業(yè)績情況亮眼，營收年均復(fù)合增長率近40%
據(jù)招股書顯示，龍圖光罩主營業(yè)務(wù)為半導(dǎo)體掩模版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。
2021年—2023年，龍圖光罩的營業(yè)收入分別為1.13億元、1.61億元和2.18億元，年均復(fù)合增長率為38.56%。而半導(dǎo)體掩模版則是龍圖光罩的主要收入來源，報(bào)告期內(nèi)來自半導(dǎo)體掩模版的收入分別為8672.51萬元、1.38億元和1.98億元，分別占主營業(yè)務(wù)收入的76.28%、85.44%和91.1３%。
盡管龍圖光罩2023年?duì)I收規(guī)模為2.18億，但毛利率保持60%左右，凈利率接近40%。
在研發(fā)投入方面，龍圖光罩三年的研發(fā)支出分別為931.80萬元、1533.31萬元和2017.59萬元，占營業(yè)收入的比例分別為8.20%、9.49%和9.24%。同時(shí)，公司研發(fā)費(fèi)用的年均復(fù)合增長率達(dá)到了47.15%，與同行業(yè)上市公司相比，其研發(fā)費(fèi)用率略高。研發(fā)中心的人才隊(duì)伍也從2021年末的26人增長至 2023 年末的42人。
在銷售費(fèi)用方面，費(fèi)用率呈現(xiàn)一定的下降趨勢，2021年至2023年占比分別為3.92%、3.07%、2.87%，這與公司重點(diǎn)開發(fā)和加深與下游半導(dǎo)體行業(yè)大客戶的合作有關(guān)，大客戶的收入規(guī)模和占比提升，帶來了收入集中度的提升，進(jìn)而銷售費(fèi)用率下降。
2021年到2023年，龍圖光罩的負(fù)債分別為7009.67萬元、4916.19萬元、7834.29萬元，資產(chǎn)負(fù)債率分別為41.95%、9.57%和12.40%。2022 年度，公司資產(chǎn)負(fù)債率下降幅度較大，主要與該公司進(jìn)行股權(quán)融資，引入外部股東有關(guān)?？偟膩碚f，公司資產(chǎn)負(fù)債率、流動(dòng)比率、速動(dòng)比率均優(yōu)于同行業(yè)可比公司，公司償債能力良好。
二 以半導(dǎo)體掩膜版為核心，持續(xù)提升工藝節(jié)點(diǎn)
龍圖光罩緊跟國內(nèi)特色工藝半導(dǎo)體發(fā)展路線，不斷進(jìn)行技術(shù)攻關(guān)和產(chǎn)品迭代，半導(dǎo)體掩模版對應(yīng)下游半導(dǎo)體產(chǎn)品的工藝節(jié)點(diǎn)從 1μm 逐步提升至 130nm，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于功率半導(dǎo)體、MEMS 傳感器、IC 封裝、模擬 IC 等特色工藝半導(dǎo)體領(lǐng)域，終端應(yīng)用涵蓋新能源、光伏發(fā)電、汽車電子、工業(yè)控制、無線通信、物聯(lián)網(wǎng)、消費(fèi)電子等場景。
成立十年以來，龍圖光罩主要產(chǎn)品的發(fā)展演變情況可以分為以下三個(gè)階段：
根據(jù)基板材質(zhì)的不同，龍圖光照的掩膜版產(chǎn)品可以分為兩類，石英掩膜版和蘇打掩膜版。從2021年到2023年，石英掩膜版收入分別為6038.85萬元、1.12億元、1.72億元，占比從53.12%、69.59%上升到78.79%；蘇打掩膜版的收入分別為5330.41萬元、4912.5萬元6、4630.21萬元，占比從46.88%、30.41%下降至21.21%。
以下游應(yīng)用領(lǐng)域來劃分，龍圖光罩的主營業(yè)務(wù)收入則可以分為三大方面，分別是半導(dǎo)體掩膜版、光學(xué)器件及其他領(lǐng)域。
三年里，半導(dǎo)體掩膜版帶來的營業(yè)收入分別為8672.51萬元、1.38億元、1.99億元，占比從76.28%逐漸攀升至85.44%、91.13%。
三、形成三大核心技術(shù)體系，打造專有技術(shù)壁壘
半導(dǎo)體掩模版行業(yè)高度依賴專有技術(shù)，具有鮮明的“Know-How” 特點(diǎn)（指根據(jù)多年經(jīng)驗(yàn)與實(shí)踐得來的知識結(jié)晶，一般在企業(yè)內(nèi)部沒有專利保護(hù)，或者和專利相輔相成，表現(xiàn)為技術(shù)訣竅、專業(yè)知識、獨(dú)家配方，屬于無形資產(chǎn)的商業(yè)秘密）。
目前，龍圖光罩形成了了涵蓋 CAM 版圖處理、光刻及檢測的三大核心技術(shù)體系，解決了高精度掩模版制作過程中對于精度和缺陷控制的難題，在制程能力、精度控制及缺陷控制方面達(dá)到國內(nèi)較為領(lǐng)先的水平。
為了解決下晶圓曝光存在圖形失真現(xiàn)象，提高晶圓曝光的分辨率與精度，就需要要在CAM 環(huán)節(jié)對掩模版圖形進(jìn)行二次加工（OPC），通過圖形補(bǔ)償來抵消圖形偏差。
龍圖光罩通過大量實(shí)驗(yàn)與實(shí)踐數(shù)據(jù)，建立了自身特有的基于規(guī)則的OPC數(shù)據(jù)庫，能夠?qū)Ω鞣N設(shè)計(jì)版圖進(jìn)行 快速、準(zhǔn)確的自動(dòng)化OPC補(bǔ)償處理，實(shí)現(xiàn)了制程與精度的顯著提升。
在光刻環(huán)節(jié)，龍圖光罩司自研了一套高精度制程管控系統(tǒng)來滿足光刻機(jī)等精密設(shè)備的苛刻環(huán)境需求，通過對溫度、濕度、氣流擾動(dòng)、微振動(dòng)等制程參數(shù)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控與調(diào)節(jié)，有效地提高了掩模產(chǎn)品的位置精度、套刻精度，降低了產(chǎn)品的缺陷水平。
同時(shí)，該公司根據(jù)自研軟件算法及多年的掩模光刻經(jīng)驗(yàn)，通過精確控制曝光光源的輸出功率、曝光時(shí)間、聚焦深度、束斑形狀等參數(shù)，對曝光環(huán)節(jié)進(jìn)行反向補(bǔ)償與動(dòng)態(tài)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)能量輸出的精細(xì)化控制，顯著提升產(chǎn)品CD精度。
掩模版上的各類缺陷通常極為微觀，在檢測環(huán)節(jié)，龍圖光罩能夠精準(zhǔn)檢測出掩模版上納米級缺陷，并自研了一套缺陷修補(bǔ)與異物去除技術(shù)，利用激光物理作用與蝕刻液化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的方式，有效地消除了激光修復(fù)后所產(chǎn)生修復(fù)印痕，避免 了因缺陷修復(fù)所帶來的二次損傷。
截止2023年底，龍圖光照已取得43項(xiàng)專利，其中發(fā)明專利16項(xiàng)，實(shí)用新型專利27項(xiàng)。另外，還有36項(xiàng)計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)。
龍圖光罩的多項(xiàng)專有技術(shù)其實(shí)并不易于以專利形式保護(hù)，不過這些技術(shù)專有技術(shù)形成了它享有的技術(shù)紅利，同時(shí)也構(gòu)成了半導(dǎo)體掩模版較高的行業(yè)壁壘。
四、較強(qiáng)上下游匹配能力，客戶集中度穩(wěn)定
獨(dú)立的第三方半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)商，需要根據(jù)上游芯片設(shè)計(jì)公司提供的設(shè)計(jì)版圖，及下游晶圓制造廠商提供的制作工藝要求，設(shè)計(jì)并制作出同時(shí)滿足芯片設(shè)計(jì)公司和晶圓制造廠要求的、用于晶圓加工的半導(dǎo)體掩模版。
在不斷追逐行業(yè)技術(shù)進(jìn)步的過程中，龍圖光罩不僅形成了大量的專有技術(shù)，也具備了較強(qiáng)的上下游匹配能力。
龍圖光罩上游原材料主要是石英基板、蘇打基板以及光學(xué)膜，供應(yīng)商主要是環(huán)球國際、璩玖科技、韶光芯材、微擇科技、S&STECHCorp等企業(yè)。
龍圖光罩的客戶，一方面涵蓋芯片制造廠商、MEMS 傳感 器廠商、先進(jìn)封裝廠商、芯片設(shè)計(jì)公司，如中芯集成、士蘭微、積塔半導(dǎo)體、華虹半導(dǎo)體、新唐科技、比亞迪半導(dǎo)體、立昂微、燕東微、粵芯半導(dǎo)體、長飛先進(jìn)、揚(yáng)杰科技、英集芯、芯朋微、斯達(dá)半導(dǎo)體等。
另一方面，也涉及進(jìn)行基礎(chǔ)技術(shù)研究的知名高校及科研院所，如清華大學(xué)、上海交通大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)、浙江大學(xué)等。
2021年到2023年，龍圖光罩前五大客戶銷售集中度較為穩(wěn)定，均為工藝半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)的大客戶。
五、三人為實(shí)際控制人，無控股股東
柯漢奇、葉小龍、張道谷分別直接持有龍圖光罩?26.33%、26.33%、19.56%股權(quán)，柯漢奇通過深圳市奇龍谷投資合伙企業(yè)（有限合伙）控制公司3.76%股權(quán)，三人合計(jì)控制龍圖光罩75.99%股權(quán)，上述三方為公司的共同實(shí)際控制人。公司無控股股東。
另外，南海成長、惠友豪嘉、華虹虹芯、瑞揚(yáng)合伙、士蘭控股、銀杏谷壹號為外部機(jī)構(gòu)股東。
龍圖光罩董事會(huì)由5名成員組成，分別是董事長柯漢奇、董事兼總經(jīng)理葉小龍、董事張道谷，以及兩名獨(dú)立董事袁振超、安豐偉。
柯漢奇是60后，固體物理專業(yè)研究生。他曾在深圳市先科企業(yè)集團(tuán)當(dāng)過工程師、部門經(jīng)理，還在中國南玻集團(tuán)股份有限公司擔(dān)任事業(yè)部總裁、集團(tuán)副總裁，2018年2月至今柯漢奇任職于龍圖光罩。
葉小龍，環(huán)境設(shè)計(jì)專業(yè)本科，他曾在深圳清溢光電股份有限公司從市場部經(jīng)理擔(dān)任副總經(jīng)理，2010年4月至今在龍圖光罩任職。
張道谷，機(jī)械制造工藝及設(shè)備專業(yè)本科。他曾擔(dān)任湖北省黃岡鋁業(yè)公司的副廠長，還當(dāng)過深圳美科電腦設(shè)計(jì)有限公司總經(jīng)理，2018 年2月至今在龍圖光罩任職。
結(jié)語：下游創(chuàng)新推動(dòng)半導(dǎo)體需求增長，國產(chǎn)替代步伐不斷加快
近年來，隨著新能源汽車、光伏 自動(dòng)駕駛、新一代移動(dòng)通信、人工智能等新技術(shù)的不斷成熟，終端產(chǎn)品更新迭代速度加快，推動(dòng)了半導(dǎo)體行業(yè)的迅速發(fā)展，也為半導(dǎo)體掩模版創(chuàng)造了大量的市場需求。
曾經(jīng)國外廠商在半導(dǎo)體掩膜版上占據(jù)壟斷地位，而隨著龍圖光罩這樣的獨(dú)立第三方半導(dǎo)體掩模版廠商崛起，也將有望加快國產(chǎn)替代的步伐，填補(bǔ)我國高端半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域的空白。
